专利权的客体即是发明创造，具体而言是指外观设计、实用新型和发明。有学者认为:实用新型要求产品必须以固定的实物立体形态存在，因为集成电路布图设计自身所具有的无形性特征，集成电路布图设计也就不可能以实用新型获得专利权。因此，集成电路布图设计专有权与专利权的界限重点就考察发明与外观设计这两种客体了。

　　“集成电路布图设计是科技领域中的一种智力劳动的成果，又直接应用于工业生产，在知识产权诸多客体中，它与发明最接近”。但发明专利权不同于集成电路布图设计专有权，其内容和要求上有很大的不同，这也是最终没有选择以发明专利来保护集成电路布图设计的原因。集成电路布图设计保护律师陈键城、郑志祥为您分析两者之间相同和不同的地方。

　　(1)集成电路布图设计不属于发明专利权的客体。“专利法所称发明，是指对产品、方法或者其改进所提出的新的技术方案”，说明专利法上的发明必须是一种完整的能解决实际问题的技术方案。集成电路产业中如“集成电路产品制造过程中产生的新的制造方案和特殊工艺”与以及别的一些完整的新颖的技术方案都可以作为发明专利的客体。集成电路布图设计只是集成电路生产中的一种中间产品，一个中间环节，不具有独立性，也不具有完整性。“含有集成电路布图设计的集成电路产品，组装成能完成一定任务、具有特定功能的零件或设备产品，若具备专利法规定的发明的条件，可以作为发明获得专利”，这也说明了集成电路布图设计不适合作为发明专利的客体，只能是集成电路布图设计专有权的客体。

　　(2)发明专利权对客体的创造性要求高，集成电路布图设计中所具有的创造性远远达不到专利法的要求。我国法律规定的发明专利权的授权条件之一是创造性，“指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步”。创造性，英、美等国称之为“非显而易见性”，要求一项发明必须比现有技术有显著的进步，或者是对熟知本专业技术的人而言并非显而易见。对集成电路进行集成电路布图设计时，常常会将一些己为人所熟知的单元电路加以组合，这种拼凑而成的集成电路大多难以满足发明专利的创造性要求，也即不能获得发明专利权，不能得到专利法的保护。但是，这些具有独创性，由创作者自己完成的智力劳动成果，也应该赋予专有权，也应该受到法律的保护。集成电路布图设计专有权保护的即是并非发明专利客体的集成电路布图设计。

　　(3)发明专利审批时间长，保护时间长，不同于集成电路布图设计专有权。由于对发明创造性要求较高，发明人投入的时间和精力都比较大，专利法给予发明专利20年的保护时间。发明具有很高的创造性，也不容易在很短的时间里就被人重新超越，审查时间也比较长。一般来说，申请专利权需要花费2至5年的时间，而考虑到现代技术更新换代的速度，考虑到集成电路产业自身发展所基本遵循的摩尔定律，如果使集成电路布图设计获得专利权的保护，那该技术也己经落伍了。我国法律规定集成电路布图设计保护时间只有10年，从登记之日或第一次商业利用时起算，也不同于发明专利权。

　　不但具备美术作品的图像性质，而且具备发明的实用性质，外观设计与集成电路集成电路布图设计非常相像，于是以外观设计专利来保护集成电路布图设计，并赋予集成电路布图设计外观设计专利权的说法便有很多了。1993年南非颁布了《外观设计法》，将集成电路布图设计以及系列作品视为“功能性外观设计”，纳入了外观设计的保护体系，“首次将其纳入工业产权的外观设计范畴之中”。与‘但是两种权利还是有很大的不同，其权利的界限主要体现在客体上，权利客体所具有的不同性质，决定了大多数国家采取了专门立法的模式进行保护。

　　外观设计是指“对产品的形状、图案或者其结合以及色彩与形状、图案的结合所作出的富有美感并适于工业应用的新设计。”与2该条规定要求外观设计必是对产品的外表所作的设计，必须在产品的外表上能表现出来;同时还要求外观设计必须具有美感，能够给人以美的享受，能够满足人们对产品视觉和感官等精神方面的要求。反观集成电路布图设计，集成电路布图设计作为集成电路生产的中间产物，是集成电路据以生产的基础，不执行任何电子功能，不可能成为集成电路的外观;集成电路芯片需要植入电器之中或与其他电子元件配置，才能共同发挥电子功能。如受外观设计专利保护的手机造型，是一种能为我们看到的外观，但手机内部的集成电路或者是生产集成电路的集成电路布图设计，都不为我们所见，也不能作为手机的外观存在。集成电路布图设计完全是元器件的位置与连接设计，“尤其是现在用CAD(计算机辅助设计)”完成的集成电路布图设计更是非常精细，肉眼根本不可能看清楚，也缺乏我们口常生活中的那种美感。与与既不是产品的外观，又不具备美感，虽然是一种可以工业应用的图形，集成电路布图设计也不能作为外观设计专利权的客体保护。