“布鲁克”一案是在世界半导体行业中第一次出现的关于集成电路布图设计侵权诉讼纠纷，该案审理过程中，根据法院给陪审团的指示是:只要被控侵权的集成电路布图设计和前集成电路布图设计在核心部分是相似的即构成集成电路布图设计侵权，当一个布图设计非常重要且最具商业价值的部分被他人复制，尽管这一部分在布图设计中所占的比例相当小，也可以构成实质相似。

　　美国在司法实践中实际上是借用了著作权法上的实质性相似理论，即如果受保护的作品的实质部分被复制，即使两个作品之间存在差异，仍不能免除侵权责任。

　　集成电路布图设计维权律师陈键城、郑志祥对实质相似判断标准的理解：

　　那么我国应当以怎样的标准来界定复制侵权呢?目前我国仅发生过一起案例最终还是以和解结案，至今在这方面的法律并不完备，也没有形成一个统一的意见。

　　对于实质相似的判断标准，是集成电路布图设计独创性判断的难点。不同的人可能会有不同的看法，这在很大程度上只能依赖于专家证人、陪审团以及法官的内心确信。结合我国的实际情况，对于实质性的判断标准。

　　笔者认为，第一，要从集成电路布图设计中元器件的布局和摆放的位置上看，看设计上有没有实质相似之处。既要从量上看受保护的布图设计中有多少部分在另一个布图设计中出现，又要从位置上看受保护的布图设计中是否摆放相同，如果两个布图设计中只有极少部分相同，则不是实质相似;第二，从布图设计中连线的布局看，根据微电子行业专业人士介绍，一般来说，两个不同的布图设计在连线的布局上不会存在完全相同的情况，即使有相同的部分存在，最多也不会超过受保护布图设计的20%;第三，对于布图设计中核心部分即实质部分的侵权则不能以元器件的布局和摆放以及连线的布局为准，也就是说，只要仿制了受保护布图设计的核心部分，无论该核心部分在该布图设计中所占面积大小，均构成侵权，界定核心部分主要看是否是在布图设计中可以完成独立功能、可以独立广泛使用的部分。

　　与其他知识产权一样，法律在赋予集成电路布图设计权人享有权利的同时，往往同时规定一些限制其专有权行使的制度，此乃知识产权法立法的宗旨使然。这种专有权的限制实际上就是某行为受到侵权指控时可以合法援引的侵权抗辩事由。

　　考察世界各国集成电路布图设计保护立法，有少数国家采用布图设计专有权的自动取得和一部分国家主要利用设计法保护布图设计，这些国家的立法所确立的权利限制制度相对较少，而且普遍缺乏采用登记制国家立法中的强制许可制度，如英国法中只规定了合理使用、权利穷竭、反向工程等制度，瑞典法中仅有合理使用、权利穷竭、善意侵权和“出版物公开”。一般而言，国际条约和大多数国内法对集成电路布图设计专有权的限制有反向工程、合理使用、第三人独立创作、强制许可使用、善意侵权和权利用尽等制度。其中，反向工程和独立创作为复制侵权的抗辩事由，合理使用、善意侵权、权利用尽、强制许可为商业利用侵权的抗辩事由。