深圳集成电路律师陈键城、郑志祥经验可知，不同国家对集成电路布图设计也有不同称谓，美国称为“掩膜作品”(Mask Works )、日本称为“线路布局”( Circuit Layout )、欧盟国家称为“半导体产品拓扑图”( Topographies of SemiconductorProducts )、世界知识产权组织使用“布图设计”( Layout Design )，我国亦遵从了世界知识产权组织的叫法，称其为“布图设计”。

　　不同国家和地区对集成电路布图设计的定义表达方式也不尽相同。美国将掩膜作品定义为一系列以有着或体现出存在于某一半导体芯片产品各层之中或刻蚀而成的金属、绝缘或半导体材料的预定的三维模式，或在该系列中，各种集成电路布图设计图形都有着一种形式的半导体芯片产品的表面的膜式，以这样的集成电路布图设计模式固定或编码而成的一系列图形;日本将集成电路布图设计定义为在半导体集成电路中的电子元件及连接这些元件的导线的布局;欧盟国家将集成电路布图设计半导体产品“拓扑图”定义为以反映构成集成电路布图设计半导体产品的那些材料层之间的三维配置方式，或每一图像分别体现了半导体产品制造过程中各个阶段的表面模式的整体或部分的方式固定或编码的一系列相关的图形;世界知识产权组织将布图设计(拓扑图)定义为集成电路中至少有一个是有源元件的多个元件，与其部分或全部集成电路互连的三维配置，或者是指为集成电路的制造而准备的这样的三维配置。我国《集成电路布图设计保护条例》第二条第二项的规定和世界知识产权组织《华盛顿条约》的规定相同。

　　深圳集成电路律师陈键城、郑志祥认为，集成电路布图设计不同名称在相比之下使用“Layout-design”集成电路布图设计这个术语还是更为合适，它可避免前述其他集成电路布图设计用语的缺陷，较晚制定集成电路布图设计保护法的大部分国家或地区都采用“集成电路布图设计”为称谓，如中国香港、韩国、俄罗斯、瑞典等，TRIPS协议及华盛顿条约也采用此词汇。不同国家对定义的表述方式有所不同，但实质集成电路布图设计的定义都是指集成电路制作过程中必须采用的反映各层材料和元件之间相互构成的三维配置的一系列图形，这个图形是无形的，其以集成电路芯片这一有形物为载体。