考虑到布图设计既具有图形作品的外在特征，又兼备工业产权保护对象的技术功能，集成电路侵权的实质条件，应当既不同于专利法所规定的新颖性、创造性和实用性条件，也不能完全照搬著作权法中纯粹的独创性要求。

一个恰当的方式是采取折中方案，即在著作权法独创性原则的基础上，辅之以一定的创造高度要求。具体而言，就是受法律保护的集成电路布图设计必须是设计人独立创造，且这种布图设计在集成电路行业中还必须是非普通或者是非常规的设计。这里的非普通或非常规比起专利法中的创造性要求要低得多。

目前这一原则己为世界上颁布了关于集成电路布图设计保护法的各国所认可，美国的《半导体芯片保护法》第902条中对于不具备独创性或在半导体工业中司空见惯、普通的或熟知的设计，或者从整体组合来看并无独创性的这种布图设计的各类变化形式不给予法律保护。现有的两个与集成电路知识产权有关的国际公约也都采用这一原则，我国的立法也不例外。

关于集成电路侵权的形式条件，通常包括以下三点：

第一，该布图设计必须投入商业实施。集成电路作为一种工业产品，只有通过商业实施才能实现其价值，故而这一要求是合情合理的。这与著作权法的要求不同。如果将布图设计视为一种图形作品，依著作权法可以不必投入商业实施，但这时所享有的权利也只能是著作权。

第二，受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中。这一要求是由布图设计的特性所决定的，因为布图设计不仅具有著作权保护对象的外在特性，更主要的是还具备工业产权保护对象的特性。世界知识产权组织《关于集成电路知识产权条约》对以上两点予以认可。同样，世界贸易组织的知识产权协议中则直接援引了《关于集成电路知识产权条约》中的条款。

第三，受保护的布图设计必须办理登记手续。布图设计是一种技术性设计，对于这类保护对象通常要求当事人办理有关登记手续。世界各国已颁布的有关法律中都有这一要求。如果国内法不将登记作为权利产生的前提，亦并不违背《关于集成电路知识产权条约》和《与贸易有关的知识产权协定》的精神。我国《集成电路布图设计保护条例》第8条规定：“布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登诏产生。”“未经登记的布图设计不受本条例保护。”

关于集成电路侵权保护期问题世界知识产权组织《关于集成电路知识产权条约》的最低要求是不低于8年。目前各国立法中多规定为10年。在世界贸易组织的知识产权协议中，关于集成电路布图设计的保护期规定为10年。为适应世贸组织的要求，我国规定了10年的保护期。